一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法，属于金属薄膜制备领域。装置是：X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接，密封腔盖与升降机构的升降杆固接，升降机构与密封腔外侧壁固接，圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接，下端设置在转台内，转台设置在密封腔内。方法是：步骤一：运动轨迹规划；步骤二：参数和轨迹微调；步骤三：在转台上可拆卸固定待镀零件，闭合密封腔盖，圆柱靶到达指定位置，抽真空并通入工作气体；步骤四：检测反射率，不合格回到步骤二，调整磁控溅射制备参数，再检测均匀性，不合格回到步骤一调整运动轨迹；若合格，使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。