本发明专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法，包括一个抛光的基底，表面镀制高反膜，其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法，高反膜系设计时，优化膜系结构及最外层的SiO2厚度，满足反射率达到要求，并且最外层的SiO2厚度变化对高反膜的反射率影响甚微，镀制时，最外层的SiO2厚度适当增加。当反射镜镀制完后，采用干涉仪测试表面面型，由于镀膜工艺及膜层应力的影响，此时的面型往往比λ/4@632.8nm更差，将测试完的表面面型数据导入离子束加工设备中，采用离子束精准去除最外层的SiO2厚度满足高精度面型要求，加工方便，反射镜的面型精度可以达到λ/40@632.8nm。