本发明是制备DLC膜的工业型自动化气相沉积设备，解决巳有的气相沉积设备结构复杂，造价高，不易于操作、不能精确控制的问题。在该设备的沉积室内同时具有物理气相沉积（PVD）单元和物理化学气相沉积（PCVD）单元，既可以采用单一单元单独进行DLC膜的沉积，也可以交替使用两个单元进行连续的DLC的复合沉积，该设备由沉积室、供气系统、真空系统、加热系统、水冷系统、磁控溅射系统、工件高压绝缘装夹系统、电气控制系统、脉冲调制电源系统等组成，具有容量大、自动化程度高、精密度高、安全性强、可扩展性强、操作及维护简单、产品应用范围广等众多优点，可广泛应用于机械、航空航天、医药等诸多领域。