本发明涉及半导体加工领域，具体涉及一种晶片载片旋转式清洁装置，包括固定架，用于固定载盘，包括相对设置的第一挡板和第二挡板、固定连接第一挡板和第二挡板的若干根第一横杆、设置在第一挡板和第二挡之间的第二横杆，载盘置于第一横杆之间围成的空腔内，且与第一挡板和第二挡板平行设置；若干根支撑柱，用于支撑固定架，支撑柱一端活动连接于第二横杆上，支撑柱另一端作为支撑点，使固定架呈悬空状；驱动机构，用于驱动固定架进行旋转，与第二横杆传动连接，带动第二横杆进行旋转，本发明通过改变支撑方式，取消了石墨承载板，减少了其遮挡热能，可以使烤盘热量扩散的更为均匀，从而达到烤盘更干净的效果。