本发明涉及一种锗单晶片用去离子水的冷却装置及冷却方法，在有保温层的容器中靠近内壁的位置，数根冷却管和数根去离子水管互相交错螺旋筒状盘旋在一起，并数根冷却管和数根去离子水管的出口端和入口端分别穿过容器壁引到容器外，分别与冷却水系统、去离子水系统相连，有保温层的容器内放置液态冷却介质及冰块调节冷却管内恒温水水温；盘旋在冷却管（3）上的去离子水管内的去离子水通过热交换降温达到锗单晶片用去离子水温度，输出。在温度为18‑25℃的去离子水系统基础上加以改造，在用水点附近加上冷却系统，效果是满足了一种锗单晶抛光片的抛光和清洗工序对去离子水的苛刻要求，且不污染去离子水，成本低、简单易行，降低生产成本，提高产能。