本发明公开一种多孔氮化硅陶瓷材料的制备方法，属多孔氮化硅陶瓷材料领域，采用空心二氧化硅微珠作为反应原料，经离子渗碳氮处理后获得产物空心氮化硅微珠，且壳壁表面生成纳米级的穿孔；其中真空离子碳氮共渗热处理的温度为680‑950℃，升温速率为5‑20℃/min，保温时间5‑30min，采用的碳源与氮源的质量配比为1:(8‑15)，混合气源的气压为120‑1100Pa；以此产物为原料，仅需添加少量烧结助剂，就可以获得具有极高的孔隙率、孔径结构均匀且有纳米尺寸的二级穿孔的多孔氮化硅材料，极大地提高了材料的过滤吸附、载体催化性能，而且优化介电常数和介电损耗，展现出优异的高频电磁波透过性能。