本申请涉及集成电路制造技术领域，具体而言，涉及一种加热装置及化学气相沉积设备。加热装置包括：承载部，能够承载衬底；加热器，安装于承载部，加热器能够加热承载部，以使承载于承载部的衬底上能够形成薄膜，且加热器包括多个加热元件，各加热元件分别与承载部的不同区域相对应；调节器，调节器包括获取元件及连接获取元件及各加热元件的调整元件，获取元件能够获取蚀刻条件，蚀刻条件为在对形成有薄膜的衬底进行蚀刻时的蚀刻条件；调整元件能够根据蚀刻条件对各加热元件的加热功率进行独立调整，以调整承载部的不同区域的温度。这样设计能够缓解形成有薄膜的衬底在后续蚀刻工艺中出现蚀刻不彻底或蚀刻过度的情况。