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专利名称掩膜板
申请日2018-11-23
申请号/专利号CN201821957502.3
专利权人合肥晶合集成电路有限公司
申请人合肥晶合集成电路有限公司
发明人/设计人杜雷
公告日2019-06-28
公告号CN209044299U
法律状态有效
专利类型实用新型
行业分类集成电路

摘要

本实用新型提供了一种掩膜板,包括用以形成对准标记图案的若干全透光部分、用以形成阱区图案的若干半透光部分及除所述全透光部分和所述半透光部分之外的不透光部分,即所述掩膜板具有三种透光形态,进行曝光工艺后,使用所述全透光部分来定义出对准标记,所述半透光部分定义出阱区,节约了一块掩膜板,同时节省一次曝光工艺和一次光刻胶去除工艺,有效减少了晶圆制造曝光次数,可达到降低成本和提高产能的目的。并且,由于对准标记仅作为对位基准使用,后续形成阱区的工艺也不会影响其功能。
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